华星光电申请防眩膜及其制备方法专利，能够有效提升防眩膜的耐磨性能
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2025-11-24 09:36:50
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国家知识产权局信息显示，深圳市华星光电半导体显示技术有限公司申请一项名为“防眩膜及其制备方法”的专利，公开号CN120993535A，申请日期为2024年5月。专利摘要显示，本申请提供一种防眩膜及其制备方法，所述防眩膜包括：基材；防眩涂层，位于所述基材的一侧，所述防眩涂层远离所述基材的一侧表面具有凹凸形状；耐磨层，位于所述防眩涂层远离所述基材的一侧，其中，所述耐磨层的材料为氧化铝。本申请提供的防眩膜及其制备方法能够有效提升防眩膜的耐磨性能。
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来源：市场资讯
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