至纯科技申请等离子体增强湿法清洗及硅片清洗方法专利，高效清洗半导体及光伏器件表面_电池问答

至纯科技申请等离子体增强湿法清洗及硅片清洗方法专利，高效清洗半导体及光伏器件表面

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2025-12-08 10:10:17

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国家知识产权局信息显示，上海至纯洁净系统科技股份有限公司、上海泛楒立光电设备有限公司申请一项名为“一种等离子体增强湿法清洗方法和硅片的清洗方法”的专利，公开号CN121075903A，申请日期为2025年7月。专利摘要显示，本发明提供了一种等离子体增强湿法清洗方法，包括以下步骤：S1)将反应气体在等离子体生成装置中进行电离，得到等离子体；S2)将所述等离子体输送至清洗槽中与清洗液反应，对半导体器件和/或光伏器件进行清洗。本申请还提供了具体的硅片的清洗方法，其在硅片的清洗过程中引入了等离子体增强湿法清洗方法。本申请提供的等离子体增强湿法清洗方法，通过结合等离子体和湿法清洗，实现了高效、环保且低成本的半导体器件和/或光伏器件表面的清洗。

天眼查资料显示，上海至纯洁净系统科技股份有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本38671.777万人民币。通过天眼查大数据分析，上海至纯洁净系统科技股份有限公司共对外投资了45家企业，参与招投标项目76次，财产线索方面有商标信息73条，专利信息332条，此外企业还拥有行政许可43个。

上海泛楒立光电设备有限公司，成立于2010年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海泛楒立光电设备有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目1次，专利信息2条，此外企业还拥有行政许可8个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业方法科技投资上海器件半导体等离子体硅片专利湿法

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