三峡实验室光刻胶用光引发剂走向市场

芯片制造又一“卡脖子”技术在湖北突破

湖北日报讯 （记者李墨、李仁玺）12月9日，湖北兴福电子材料股份有限公司发布公告，以4626.78万元收购湖北三峡实验室重大科技成果“光刻胶用光引发剂制备专有技术及实验设备所有权”。这项半导体领域“卡脖子”技术走向市场后，将打破该材料长期被境外企业垄断的局面。

湖北三峡实验室光引发剂项目研发负责人介绍，此次转让的成果G/I线光刻胶用光引发剂的关键技术，主要用于芯片和显示领域。

芯片制造需要几百种设备和材料，其中光刻机和光刻胶是常被提起的“卡脖子”产品。而对光刻胶的感光度和分辨率起决定性作用的，就是光引发剂。“目前，在国产芯片和显示领域，光刻胶用光引发剂几乎全部依赖美日韩进口。”该负责人表示。

“这是一次市场需求倒逼的研发创新，企业出题，实验室答题。”湖北三峡实验室主任池汝安透露，微电子新材料是三峡实验室的研究方向之一，近年来，许多半导体客户表示，因光引发剂遭遇限购和断供，国产光刻胶多次被“卡脖子”，给国内半导体产业链的生产带来极大压力。

主攻芯片蚀刻电子级磷酸、电子级硫酸等产品的兴福电子，希望切入光引发剂产业赛道，但从0到1的研发风险却成了难题。“一旦研发失败，巨大的投入和时间成本，将令企业难以承受。”兴福电子总工程师贺兆波表示，企业想到了三峡实验室。

兴福电子提出委托研发意向后，三峡实验室当即决定开展光引发剂关键技术的攻关。“面向产业需求做研发，本就是湖北实验室的特色和使命。”池汝安说。

在历经三年研发攻坚后，今年5月，上海一家光刻胶龙头企业回复三峡实验室：“送样各项指标与国外进口厂商达到同一水平。”随后，中试样品在多家光刻胶企业都通过了初轮验证，相关技术终于具备产业化条件。

池汝安介绍，该成果已进入产业化前期阶段，投产后将成为湖北第一条光刻胶用光引发剂生产线，对我国光刻胶产业发展将起到积极作用。