新上联半导体取得一种真空排气系统专利 具有较高抽气效率
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2025-07-08 11:40:03
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金融界2025年7月8日消息，国家知识产权局信息显示，新上联半导体设备（上海）有限公司取得一项名为“一种真空排气系统”的专利，授权公告号CN223076758U，申请日期为2024年09月。
专利摘要显示，本实用新型提供一种真空排气系统，应用于半导体加工技术领域，其包括从上至下依次连接的抽气主管、隔离腔和排气主管，所述抽气主管竖置，所述隔离腔包括横置的直管，所述抽气主管上还设有多个压力计和压力开关，所述压力开关包括控制模块、第一压力开关和第二压力开关，所述第一压力开关检测所述抽气主管内的压力，防止抽气主管承受气压过大；所述第二压力开关用于检测抽气主管与灯室内的差压，防止差压过大导致控制模块死机；相较于多个拐弯角度的隔离腔的设计，具有较高的抽气效率；且抽气主管两侧空间更多，能安装较多的压力计和压力开关，对所述真空排气系统进行更精确地控制。
天眼查资料显示，新上联半导体设备（上海）有限公司，成立于2023年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本2141.33万人民币。通过天眼查大数据分析，新上联半导体设备（上海）有限公司参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息7条，此外企业还拥有行政许可1个。
来源：金融界
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