金融界2025年7月28日消息,国家知识产权局信息显示,宁波达新半导体有限公司申请一项名为“一种PNM IGBT的制造方法”的专利,公开号CN120379283A,申请日期为2025年04月。
专利摘要显示,本发明公开一种PNM IGBT的制造方法。本发明通过硬掩模技术,结合各向异性与各向同性刻蚀的多次刻蚀技术。通过低成本的方式实现高精度的台面控制,可以实现较好的生产制造控制,实现大规模量产。通过本发明的方法,显著提升了PNM IGBT器件生产制造的可行性。
天眼查资料显示,宁波达新半导体有限公司,成立于2013年,位于宁波市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2191.0415万人民币。通过天眼查大数据分析,宁波达新半导体有限公司共对外投资了6家企业,参与招投标项目3次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息20条。
来源:金融界