国家知识产权局信息显示,美光科技公司申请一项名为“包含形状记忆材料的微电子装置及相关方法、存储器装置及电子系统”的专利,公开号CN121357894A,申请日期为2025年7月。
专利摘要显示,本申请案涉及包含形状记忆材料的微电子装置及相关方法、存储器装置及电子系统。一种微电子装置包含:堆叠结构,其具有相对于彼此竖直堆叠的层级;及支柱结构,其分别包含竖直延伸穿过所述堆叠结构的所述层级的半导体材料。所述堆叠结构的所述层级分别包含:绝缘材料;形状记忆材料,其与所述绝缘材料竖直相邻;及导电材料,其与所述形状记忆材料竖直相邻。
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来源:市场资讯