正宇兴电子申请芯片刻蚀加工设备专利，提高芯片加工质量
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2025-07-18 16:39:23
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金融界2025年7月18日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市正宇兴电子有限公司申请一项名为“一种芯片刻蚀加工设备”的专利，公开号CN120341138A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本发明涉及芯片刻蚀技术领域，具体地说，涉及一种芯片刻蚀加工设备。包括刻蚀机，所述刻蚀机的内部设置有两组刻蚀装置，一组所述刻蚀装置包括刻蚀箱和清洗箱，所述刻蚀箱和清洗箱的上端固定连接有侧板，所述刻蚀箱的上方设置有固定杆，所述固定杆的下端固定连接有夹持组件，本发明通过摆动板带动一系列部件运动，使固定块通过活动杆带动滑杆在圆柱杆上横向移动，从而带动芯片在刻蚀箱和清洗箱上方进行往复横向移动，既实现芯片在不同加工区域之间精准定位，极大缩短了工序转移时间，通过相关部件带动芯片在刻蚀箱或清洗箱内往复纵向移动，精确控制浸入深度，保障刻蚀和清洗效果的一致性与均匀性，提高芯片加工质量。
天眼查资料显示，深圳市正宇兴电子有限公司，成立于2013年，位于深圳市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市正宇兴电子有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目2次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息42条，此外企业还拥有行政许可7个。
来源：金融界
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