国创科申请电流体喷头芯片及成型方法专利，保证打印精度和打印质量
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2026-02-07 15:13:47
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国家知识产权局信息显示，武汉国创科光电装备有限公司申请一项名为“一种电流体喷头的芯片及成型方法”的专利，公开号CN121469151A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本申请涉及一种电流体喷头的芯片及成型方法，包括：硅板，所述硅板表面开设有多个贯穿的喷射孔；绝缘板，所述绝缘板贴合于所述硅板顶面，所述绝缘板表面开设有多个出液孔，多个所述出液孔分别与多个所述喷射孔连通；介电层，所述介电层成型于所述硅板的底面；电极结构，所述电极结构包括多个电极环，多个所述电极环均连接于所述介电层的底面，且多个所述电极环分别环绕于多个所述喷射孔。本申请通过硅板作为喷射板，易于加工精度更高、尺寸更小的喷射孔，而保证打印精度和打印质量。
天眼查资料显示，武汉国创科光电装备有限公司，成立于2020年，位于武汉市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本7588.8096万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉国创科光电装备有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目29次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息228条，此外企业还拥有行政许可11个。
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来源：市场资讯
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