拓荆创益申请取片方法、装置、半导体加工设备及存储介质专利，提升工艺效率
创始人
2026-02-17 19:22:41
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国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“取片方法、装置、半导体加工设备及存储介质”的专利，公开号CN121548263A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明提供了取片方法、装置、半导体加工设备及存储介质。所述取片方法包括以下步骤：经由设置于传送路径上的一检测点的检测传感器，获取晶圆在所述检测点上的实际位置数据；根据所述实际位置数据，判断所述晶圆是否能被传送所述晶圆的机械手纠偏；以及响应于所述晶圆能被所述机械手纠偏的判断结果，根据所述实际位置数据，修正所述机械手的取片位置，并经由所述机械手在从所述设备前端模块取出所述晶圆时进行纠偏。本发明可以通过设置在传片路径上的检测传感器，获取晶圆实际位置，以指导机械手执行纠偏动作，用于实现在运动过程中采集和传输晶圆位置偏移数据，从而增大晶圆传送的容差范围，进而提升工艺效率。
天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目26次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息479条，此外企业还拥有行政许可16个。
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来源：市场资讯
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