国家知识产权局信息显示,东莞新科技术研究开发有限公司申请一项名为“一种半导体基片的制造方法”的专利,公开号CN121604735A,申请日期为2024年8月。
专利摘要显示,本发明公开了一种半导体基片的制造方法,包括:将含有硅元素的固态材料置于真空环境下;通过激光或电子束对所述固态材料的表面进行照射,形成液态表面;在所述液态表面上沉积薄膜材料,形成初始薄膜;控制所述液态表面达到预设温度,使所述液态表面与所述初始薄膜形成结合,获得半导体基片。采用本发明的技术方案能够制造出成分均匀、厚度可控、质量高的半导体基片,并且制造成本较低。
天眼查资料显示,东莞新科技术研究开发有限公司,成立于2004年,位于东莞市,是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本1050万美元。通过天眼查大数据分析,东莞新科技术研究开发有限公司参与招投标项目1次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息645条,此外企业还拥有行政许可43个。
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来源:市场资讯