ASML申请监测浸没式光刻装置性能专利，使光敏层被曝光
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2026-05-06 11:32:00
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“监测性能的方法、制造器件的方法、计算机程序和光刻装置”的专利，公开号CN121986301A，申请日期为2024年9月。

专利摘要显示，一种监测浸没式光刻装置的性能的方法，该方法包括：使测试衬底相对于液体限制结构移动通过一系列测试路线部分，同时将曝光辐射通过浸没液体投射到测试衬底上的光敏层上，使得光敏层被曝光；其中一系列测试路线部分包括第一测试路线部分和第二测试路线部分；并且第二测试路线部分与第一测试路线部分对称。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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