尼卡光学取得用于曝光全息光敏材料制作体全息光栅的曝光装置专利，保证光阑形状精准度和曝光质量
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2025-08-01 13:14:30
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金融界2025年8月1日消息，国家知识产权局信息显示，尼卡光学（天津）有限公司取得一项名为“一种曝光装置”的专利，授权公告号CN223180564U，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本方案属于体全息光栅技术领域，公开了一种曝光装置，用于曝光全息光敏材料以制作体全息光栅。该曝光装置包括曝光系统和第一调节组件，曝光系统用于向全息光敏材料出射信号光和参考光，信号光和/或参考光的光路上设有第一调节组件，第一调节组件包括卡座和位于光路上的可替换的光阑。该光阑是按照设计图纸机械加工成型的零件，活动安装于卡座以便替换，用于调节所在光路的信号光或参考光在全息光敏材料上的光分布。采用卡座活动安装光阑，使得光阑可以作为独立的零件进行机械加工，因此光阑的形状和尺寸可以严格按照设计图纸进行定制，从而保证了光阑形状的精准度和曝光的质量。替换光阑时无需进行胶带的粘贴和裁剪，有利于提高曝光效率。
天眼查资料显示，尼卡光学（天津）有限公司，成立于2022年，位于天津市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本174.1733万人民币。通过天眼查大数据分析，尼卡光学（天津）有限公司共对外投资了3家企业，财产线索方面有商标信息2条，专利信息34条，此外企业还拥有行政许可4个。
来源：金融界
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