国家知识产权局信息显示,武汉敏声新技术有限公司申请一项名为“一种薄膜体声波滤波器的制备方法及薄膜体声波滤波器”的专利,公开号CN121000186A,申请日期为2025年8月。
专利摘要显示,本发明公开了一种薄膜体声波滤波器的制备方法及薄膜体声波滤波器,该制备方法包括在衬底基板的一侧制备压电层,并在压电层远离衬底基板的一侧采用同一掩膜版同时制备形成第一电极结构和电极接触垫,第一电极结构和电极接触垫电连接,且在部分区域第一电极结构和电极接触垫间存在间隙,以形成第一电极层。在第一电极层远离衬底基板的一侧,根据第一电极层的形状沉积材料以制备电容。如此,采用同一掩膜版同时制备形成第一电极结构和电极接触垫,将第一电极层复用为电容的底电极并且之后的电容是依据第一电极层的形状沉积无需采用掩膜版来制备后续膜层,减少了光刻次数与工艺步骤,避免了多掩模对准误差对器件性能的影响。
天眼查资料显示,武汉敏声新技术有限公司,成立于2019年,位于武汉市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2411.5347万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉敏声新技术有限公司共对外投资了4家企业,参与招投标项目5次,财产线索方面有商标信息36条,专利信息333条,此外企业还拥有行政许可2个。
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