苏纳光电申请半导体加工控制方法专利，改善晶圆中心与边缘区域的工艺均匀性_电池技术

苏纳光电申请半导体加工控制方法专利，改善晶圆中心与边缘区域的工艺均匀性

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2026-01-08 14:17:07

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国家知识产权局信息显示，苏州苏纳光电有限公司申请一项名为“半导体加工控制方法及相关装置”的专利，公开号CN121282077A，申请日期为2025年9月。

专利摘要显示，本发明公开了一种半导体加工控制方法及相关装置，其中，半导体加工控制方法包括：对内线圈和外线圈施加初始功率，获取晶圆表面的反应物的平均浓度，以平均浓度为目标浓度，基于晶圆表面的预设位置处的反应物浓度与电感耦合线圈的功率的映射关系，根据目标浓度调节内线圈的功率和外线圈的功率。根据本发明的半导体加工控制方法及相关装置，能够通过动态调节内线圈和外线圈上的功率，优化等离子体分布，从而改善晶圆中心与边缘区域的工艺均匀性，实现自适应优化。本发明无需改造设备结构，适用于不同工艺参数和反应体系，可显著提高晶圆加工的均匀性和一致性。

天眼查资料显示，苏州苏纳光电有限公司，成立于2014年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本626.9992万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州苏纳光电有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目31次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息179条，此外企业还拥有行政许可7个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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