聚合电光申请提高PZT或PLZT薄膜电光系数方法专利，提升其在传感器、执行器和存储器等应用中的性能
创始人
2026-02-09 17:44:33
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国家知识产权局信息显示，聚合电光（杭州）科技有限公司申请一项名为“一种提高PZT或PLZT薄膜电光系数的方法”的专利，公开号CN121477513A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明的一种提高PZT或PLZT薄膜电光系数的方法，包括以下步骤：S1，在PZT或PLZT薄膜贴附电极；S2，通过电极在PZT或PLZT薄膜的施加外部电场，施加的外部电场大于内部矫顽场，对在PZT或PLZT薄膜内部电畴进行转向，实现有效极化。本发明的一种提高PZT或PLZT薄膜电光系数的方法，无需破坏原器件结构，利用极化方法实现在已制备好的PZT/PLZT薄膜上提升其电光系数，提升其在传感器、执行器和存储器等应用中的性能。
天眼查资料显示，聚合电光（杭州）科技有限公司，成立于2022年，位于杭州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本109.0425万人民币。通过天眼查大数据分析，聚合电光（杭州）科技有限公司专利信息6条，此外企业还拥有行政许可2个。
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来源：市场资讯
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