中环领先取得半导体晶片酸腐蚀后简易清洗装置专利，结构简单体积小且更加简便节能
国家知识产权局信息显示，天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体科技股份有限公司取得一项名为“一种半导体晶片酸腐蚀后用简易清洗装置及清洗机”的专利，授权公告号CN223899619U，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本实用新型提供了一种半导体晶片酸腐蚀后用简易清洗装置及清洗机，涉及半导体晶片生产技术领域，包括：药液槽，用于容置晶片清洗药液，药液槽内设置第一超声装置；水洗槽，内设置匀流管和第二超声装置，水洗槽设置溢流口；温度调节组件，包括散热器、加热器、温度传感器和进水管路，其中：散热器、加热器、温度传感器均设置于药液槽内；进水管路通过第一分支管路连接散热器的入口，进水管路通过第二分支管路连接匀流管；第一分支管路与第二分支管路上均设置阀门；散热器的出口通过第三分支管路连接第二分支管路；控制装置，阀门、加热器、温度传感器均与控制装置电连接。本实用新型的有益效果是结构简单、体积小且更加简便节能，生产成本低。
天眼查资料显示，天津中环领先材料技术有限公司，成立于2008年，位于天津市，是一家以从事水利管理业为主的企业。企业注册资本145000万人民币。通过天眼查大数据分析，天津中环领先材料技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目36次，专利信息531条，此外企业还拥有行政许可238个。
中环领先半导体科技股份有限公司，成立于2017年，位于无锡市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本500000万人民币。通过天眼查大数据分析，中环领先半导体科技股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目348次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息1178条，此外企业还拥有行政许可227个。
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来源：市场资讯