晶合集成申请图像传感器及其制作方法专利，提升图像传感器的色纯度、近红外感度和光电转换效率_电池技术

晶合集成申请图像传感器及其制作方法专利，提升图像传感器的色纯度、近红外感度和光电转换效率

创始人

2026-03-02 10:12:55

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国家知识产权局信息显示，合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“一种图像传感器及其制作方法”的专利，公开号CN121586309A，申请日期为2026年1月。

专利摘要显示，本发明公开了一种图像传感器及其制作方法，属于半导体技术领域。图像传感器包括：衬底，所述衬底内间隔设置多个光电二极管；第一氧化区和第二氧化区，交替设置在相邻所述光电二极管之间的所述衬底内，所述第一氧化区和所述第二氧化区的形状不同，所述第一氧化区和所述第二氧化区关于所述光电二极管不对称；深沟槽隔离结构，设置在所述第一氧化区和所述第二氧化区内；格栅结构，设置在所述光电二极管之间的所述衬底上；以及滤光结构，设置在所述光电二极管上。通过本发明提供的一种图像传感器及其制作方法，能够增加光程，且能避免光线串扰，有效防止光的干涉与折射的发生，提升图像传感器的色纯度、近红外感度和光电转换效率。

天眼查资料显示，合肥晶合集成电路股份有限公司，成立于2015年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本200759.1697万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目637次，财产线索方面有商标信息41条，专利信息1662条，此外企业还拥有行政许可22个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业氧化投资合肥纯度图像传感器晶合专利二极管光电图像传感器衬底氧化区

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