铠侠申请半导体存储装置专利,能提高良率
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2026-03-14 04:32:54
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国家知识产权局信息显示,铠侠股份有限公司申请一项名为“半导体存储装置”的专利,公开号CN121645885A,申请日期为2025年3月。

专利摘要显示,本发明提供一种半导体存储装置,其能提高良率。一实施方式的半导体存储装置具备:衬底;积层体,配置在第1方向上的衬底的上方;第1导电体层,配置在衬底与积层体之间;存储器柱,包含半导体膜,在第1方向上延伸,贯通第1导电体层;及第1部件,在与第1方向交叉的第2方向上与存储器柱隔开而配置,在第1方向上延伸,贯通第1导电体层。积层体具有从衬底侧起,将第1半导体层、第2半导体层、第2导电体层及第3导电体层依序积层而成的构造。第1半导体层覆盖半导体膜的第1方向上的端部、及第1部件的第1方向上的端部。

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来源:市场资讯

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