国家知识产权局信息显示,天津大学;天津万柔科技有限公司申请一项名为“晶圆检测器和晶圆表面电阻率检测方法”的专利,公开号CN121995111A,申请日期为2026年4月。
专利摘要显示,本申请提供了一种晶圆检测器和晶圆表面电阻率检测方法。涉及半导体晶圆制造与测量领域。晶圆检测器包括:背板;源表模块,设置在背板上;柔性衬底,柔性衬底凸出设置在背板的一侧;探头阵列模块,探头阵列模块设置在柔性衬底的远离背板的一侧,探头阵列模块包括阵列排布的多个探头单元;薄膜电路模块,薄膜电路模块铺设在柔性衬底上,并被配置为将多个探头单元和源表模块进行电连接;其中,在背板移动到目标位置的情况下,柔性衬底在外力的作用下产生形变,使多个探头单元与待测晶圆同时产生电接触,源表模块通过多个探头单元测量待测晶圆上多个待测点位的电阻率。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
来源:市场资讯