其异半导体取得水平气流多片式化学气相沉积设备专利，提高外延层膜厚均匀性和反应气体利用率
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2025-07-19 17:09:04
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金融界2025年7月19日消息，国家知识产权局信息显示，宁波其异半导体设备有限公司取得一项名为“一种水平气流多片式化学气相沉积设备”的专利，授权公告号CN223118587U，申请日期为2024年09月。
专利摘要显示，本实用新型公开一种水平气流多片式化学气相沉积设备，涉及半导体材料生产设备技术领域，包括反应腔、进气系统、排气系统和搬运系统；反应腔内设置有隔离筒，隔离筒内设置有基座，基座上设置有托盘，托盘用于承载晶圆，基座底部通过旋转轴与旋转电机相连接。本实用新型水平气流多片式化学气相沉积设备，气源通过进气接口分别与反应腔内的反应气流道和保护气流道相连通，通过保护气体流道，将热场发热体与晶圆完全隔离，避免直接接触形成沉积附着；基座内圆周均布多个晶圆，基座整体围绕中心轴进行旋转能满足基本的外延均匀性需求。增加晶圆的自转，行星式旋转有助于径向反应气在衬底表面的扩散，提高外延层膜厚均匀性和反应气体利用率。
天眼查资料显示，宁波其异半导体设备有限公司，成立于2023年，位于宁波市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，宁波其异半导体设备有限公司专利信息1条。
来源：金融界
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