金融界2025年8月5日消息,国家知识产权局信息显示,上海朋熙半导体有限公司申请一项名为“基于岭回归算法的半导体工艺工程数据的拟合方法、设备、介质及产品”的专利,公开号CN120408547A,申请日期为2025年02月。
专利摘要显示,本申请涉及半导体制造技术领域,公开了一种基于岭回归算法的半导体工艺工程数据的拟合方法、设备、介质及产品。该方法包括:采集历史数据,构建数据集;建立岭回归模型,并进行初始化;其中,岭回归模型包括正则化强度超参数;利用交叉熵损失函数确定正则化强度超参数的最佳值;在正则化强度超参数取最佳值的情况下,利用数据集对岭回归模型进行训练,得到岭回归模型的各个参数的取值,以得到训练后的岭回归模型,用以进行半导体工艺工程数据的拟合。通过采用本方案,可以通过引入岭回归模型,有效解决了自变量之间高度相关性导致的回归系数不稳定问题。通过优化交叉熵损失函数,确定了最佳的正则化强度,提高了回归系数的稳定性。
天眼查资料显示,上海朋熙半导体有限公司,成立于2019年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析,上海朋熙半导体有限公司共对外投资了3家企业,参与招投标项目3次,财产线索方面有商标信息3条,专利信息109条,此外企业还拥有行政许可5个。
来源:金融界