拓荆科技申请半导体的工艺设备及其维修与工艺方法专利，大幅度提高半导体设备的坪效比
创始人
2025-06-25 12:20:05
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金融界2025年6月25日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司申请一项名为“半导体的工艺设备，及其维修方法与工艺方法”的专利，公开号CN120199705A，申请日期为2025年03月。
专利摘要显示，本发明公开了一种半导体的工艺设备，及其维修方法和半导体的工艺方法。半导体的工艺设备包括：连接组件，设于单反应腔的外侧，包括第一连接部和第二连接部，各单反应腔经由该第一连接部与相邻的该单反应腔的该第二连接部可拆卸地连接；以及该单反应腔，包括主腔，其第一面用于传输晶圆，与之相对的第二面设有位于该主腔内且与之形成抽拉式连接的活动腔，其中，该活动腔内包括工艺部件，以在该活动腔处于推入式的状态下，对该晶圆进行工艺处理，并处于抽拉出的状态下，对该工艺部件进行维修处理。
天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本143253.79万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目20次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息260条，此外企业还拥有行政许可29个。
来源：金融界
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