联合光科申请半导体碳化硅吸盘平面度激光检测装置专利，提升贴合精度
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2026-01-03 18:37:10
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国家知识产权局信息显示，联合光科（上海）技术有限公司申请一项名为“一种半导体碳化硅吸盘平面度激光检测装置”的专利，公开号CN121252701A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明公开了一种半导体碳化硅吸盘平面度激光检测装置，涉及激光检测技术领域，包括支撑机构，支撑机构包括检测底座，检测底座上设置有第一支撑底座以及第二支撑底座，检测底座上还设置有激光检测组件；碳化硅吸盘组件的外侧连接有第一负压吸附组件；平片组件包括与碳化硅吸盘组件平行设置的平片单元以及若干组固定设置在平片单元外侧的防护单元；第二支撑底座上固定设置有承载组件，平片组件放置在承载组件的内部；承载组件的内部在靠近碳化硅吸盘组件一侧设置有复合气路机构，复合气路机构包括第二负压吸附组件以及吹气组件；本发明提升贴合精度，为激光检测提供可靠基准。
天眼查资料显示，联合光科（上海）技术有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本1367.1875万人民币。通过天眼查大数据分析，联合光科（上海）技术有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目67次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息50条，此外企业还拥有行政许可6个。
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来源：市场资讯
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