四方光电取得集成式紫外气体分析仪专利，结构紧凑适应移动监测及空间受限工业现场
创始人
2026-01-06 19:08:43
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国家知识产权局信息显示，四方光电（武汉）仪器有限公司取得一项名为“一种集成式紫外气体分析仪”的专利，授权公告号CN223770057U，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本实用新型涉及气体分析仪技术领域，公开了一种集成式紫外气体分析仪，包括机箱，其内部设有上层空间和下层空间；上层空间设置有伴热管连接单元、高温气体检测气体池单元、标定及气路执行单元以及泵单元；下层空间设置有主板控制单元、供电单元、紫外光谱仪和紫外光源；其中，高温气体检测气体池单元包括气体池，气体池设置有进光口和出光口，紫外光源与进光口连接，紫外光谱仪与出光口连接；标定及气路执行单元与气体池相连，用于分析仪的标定校准。本实用新型将气体分析仪的多个单元设计到双层结构的机箱中，结构紧凑，既可以适应一般测量现场，还可以适应移动监测以及空间受限的工业现场。
天眼查资料显示，四方光电（武汉）仪器有限公司，成立于2010年，位于武汉市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，四方光电（武汉）仪器有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目85次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息49条，此外企业还拥有行政许可19个。
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来源：市场资讯
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