国家知识产权局信息显示,四方光电(武汉)仪器有限公司取得一项名为“一种集成式紫外气体分析仪”的专利,授权公告号CN223770057U,申请日期为2025年10月。
专利摘要显示,本实用新型涉及气体分析仪技术领域,公开了一种集成式紫外气体分析仪,包括机箱,其内部设有上层空间和下层空间;上层空间设置有伴热管连接单元、高温气体检测气体池单元、标定及气路执行单元以及泵单元;下层空间设置有主板控制单元、供电单元、紫外光谱仪和紫外光源;其中,高温气体检测气体池单元包括气体池,气体池设置有进光口和出光口,紫外光源与进光口连接,紫外光谱仪与出光口连接;标定及气路执行单元与气体池相连,用于分析仪的标定校准。本实用新型将气体分析仪的多个单元设计到双层结构的机箱中,结构紧凑,既可以适应一般测量现场,还可以适应移动监测以及空间受限的工业现场。
天眼查资料显示,四方光电(武汉)仪器有限公司,成立于2010年,位于武汉市,是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析,四方光电(武汉)仪器有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目85次,财产线索方面有商标信息5条,专利信息49条,此外企业还拥有行政许可19个。
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来源:市场资讯