国家知识产权局信息显示,爱思开海力士有限公司申请一项名为“具有电力分布层的半导体装置”的专利,公开号CN121310999A,申请日期为2025年4月。
专利摘要显示,本公开涉及具有电力分布层的半导体装置。半导体装置包括:设置在基板上的晶体管;以及设置在晶体管上方的互连层。互连层包括下互连层和设置在下互连层上方的上互连层。上互连层包括:在第一方向上平行地延伸的第一图案;以及第二图案,其设置在第一图案之间,并且在垂直于第一方向的第二方向上将第一图案彼此连接。第二图案被布置为在第一方向上彼此间隔开,并且在第二方向上布置成锯齿形。
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