国际商业机器公司取得通过背侧蚀刻改善超导量子位性能专利
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2026-01-30 12:11:22
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国家知识产权局信息显示，国际商业机器公司取得一项名为“通过背侧蚀刻的超导Q度寿命和相干改善”的专利，授权公告号CN115843471B，申请日期为2021年6月。

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