上海镭灿光学申请高NA长工作距离DUV显微物镜专利，适用于半导体检测等精密光学领域
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2026-02-18 10:14:35
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国家知识产权局信息显示，上海镭灿光学有限公司申请一项名为“一种高NA长工作距离DUV显微物镜”的专利，公开号CN121541374A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种高NA长工作距离DUV显微物镜。该显微物镜沿光轴从像侧至物侧依次由具有负光焦度的第一透镜组、具有正光焦度的第二透镜组和具有正光焦度的第三透镜组组成。第一透镜组包括双凹透镜和弯月负透镜，第二透镜组内含光阑并由多个正透镜构成，第三透镜组由两个凹面朝向物方的弯月正透镜构成。通过严格控制三组透镜的焦距比例关系（1≤|f1/f|≤3，11.2≤|f2/f|≤12.2，12.7≤|f3/f|≤13.7）及关键结构参数，并采用非球面与全单透镜结构，协同解决了高数值孔径与长工作距离之间的矛盾。本发明在248nm波段实现NA≥0.85、工作距离≥14.6mm的优异性能，像差校正良好，寿命长，适用于半导体检测等精密光学领域。
天眼查资料显示，上海镭灿光学有限公司，成立于2024年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本600万人民币。通过天眼查大数据分析，上海镭灿光学有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目1次，专利信息3条，此外企业还拥有行政许可1个。
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来源：市场资讯
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