武汉楚兴技术申请图像传感器及其制造方法专利，减少图像传感器的缺陷
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2026-03-25 03:59:22
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国家知识产权局信息显示，武汉楚兴技术有限公司申请一项名为“一种图像传感器及其制造方法”的专利，公开号CN121728842A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本申请提供一种图像传感器及其制造方法，图像传感器包括从中心至边缘的核心区域、过渡区域以及切割区域。过渡区域包括第一过渡区域和第二过渡区域，第一过渡区域毗邻切割区域，第二过渡区域靠近核心区域。方法包括：在衬底上依次形成颜色层、涂胶层以及透镜结构。形成图案化的光刻胶层，图案化的光刻胶层暴露位于第一过渡区域的透镜结构，以图案化的光刻胶层为掩蔽去除位于第一过渡区域的透镜结构、涂胶层以及颜色层。形成抗反射层，抗反射层至少覆盖位于第二过渡区域的涂胶层的侧壁和颜色层的侧壁，以利用抗反射层避免位于过渡区域的涂胶层和颜色层被内掏，从而避免位于过渡区域的抗反射层脱落，最终减少图像传感器的缺陷。
天眼查资料显示，武汉楚兴技术有限公司，成立于2022年，位于武汉市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2074316.847826万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉楚兴技术有限公司参与招投标项目38次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息117条，此外企业还拥有行政许可321个。
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