兴福电子申请选择性氮化钛蚀刻液专利,蚀刻后表面粗糙度较低
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2026-03-28 19:36:47
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国家知识产权局信息显示,湖北兴福电子材料股份有限公司申请一项名为“一种选择性氮化钛蚀刻液”的专利,公开号CN121736756A,申请日期为2025年11月。

专利摘要显示,本发明涉及一种选择性氮化钛蚀刻液,化剂、络合剂、无机碱、金属蚀刻抑制剂、硅蚀刻抑制剂、醇类和去离子水构成氮化钛蚀刻液。在对氮化钛蚀刻的过程中,能够保持快速稳定的蚀刻速率,对铜钨的选择比较高,且对硅基本没有损伤,蚀刻后表面粗糙度较低,有较高的寿命。该蚀刻液能通过氧化剂和碱蚀刻氮化钛膜层,络合剂能络合溶液中的金属离子,在提高蚀刻速率的同时能增加溶液的寿命,醇类能够铺展在表面达到降低蚀刻后表面粗糙度的目的,同时配有蚀刻抑制剂能抑制铜、钨和硅等的腐蚀。本发明的蚀刻液能稳定快速的蚀刻氮化钛,对钨、铜、硅有较高的选择比,有较长的寿命且蚀刻后表面粗糙度较低。

天眼查资料显示,湖北兴福电子材料股份有限公司,成立于2008年,位于宜昌市,是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本36000万人民币。通过天眼查大数据分析,湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了10家企业,参与招投标项目213次,财产线索方面有商标信息4条,专利信息496条,此外企业还拥有行政许可287个。

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来源:市场资讯

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