兴福电子申请选择性氮化钛蚀刻液专利，蚀刻后表面粗糙度较低
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2026-03-28 19:36:47
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国家知识产权局信息显示，湖北兴福电子材料股份有限公司申请一项名为“一种选择性氮化钛蚀刻液”的专利，公开号CN121736756A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明涉及一种选择性氮化钛蚀刻液，化剂、络合剂、无机碱、金属蚀刻抑制剂、硅蚀刻抑制剂、醇类和去离子水构成氮化钛蚀刻液。在对氮化钛蚀刻的过程中，能够保持快速稳定的蚀刻速率，对铜钨的选择比较高，且对硅基本没有损伤，蚀刻后表面粗糙度较低，有较高的寿命。该蚀刻液能通过氧化剂和碱蚀刻氮化钛膜层，络合剂能络合溶液中的金属离子，在提高蚀刻速率的同时能增加溶液的寿命，醇类能够铺展在表面达到降低蚀刻后表面粗糙度的目的，同时配有蚀刻抑制剂能抑制铜、钨和硅等的腐蚀。本发明的蚀刻液能稳定快速的蚀刻氮化钛，对钨、铜、硅有较高的选择比，有较长的寿命且蚀刻后表面粗糙度较低。
天眼查资料显示，湖北兴福电子材料股份有限公司，成立于2008年，位于宜昌市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本36000万人民币。通过天眼查大数据分析，湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目213次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息496条，此外企业还拥有行政许可287个。
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来源：市场资讯
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