新益昌申请芯片取样路径生成方法专利，保证芯片区域亮度检测结果的准确度
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2026-04-03 19:23:56
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国家知识产权局信息显示，深圳新益昌科技股份有限公司申请一项名为“芯片取样路径的生成方法、装置、设备及可读存储介质”的专利，公开号CN121772696A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请适用于半导体技术领域，提供了芯片取样路径的生成方法、装置、设备及可读存储介质，该方法包括：获取多个芯片所在的芯片区域的目标参数，目标参数包括划分层数M，以及每层的划分区域个数N；根据目标参数，对芯片区域进行划分，得到M×N个目标区域；对M×N个目标区域均匹配目标吸取方式，并根据M×N个目标区域中每个区域的目标吸取方式，得到M×N个局部吸取路径，M×N个局部吸取方式与M×N个目标区域一一对应；根据M×N个局部吸取路径，对M×N个目标区域的芯片进行吸取并检测亮度，得到亮度检测结果。从而，本申请可以尽可能避免芯片取样位置缺乏代表性，保证芯片区域的亮度检测结果的准确度。
天眼查资料显示，深圳新益昌科技股份有限公司，成立于2006年，位于深圳市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本10213.36万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳新益昌科技股份有限公司共对外投资了9家企业，参与招投标项目43次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息393条，此外企业还拥有行政许可21个。
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来源：市场资讯
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