红太阳光电申请原子层沉积退火设备及硅片钝化镀膜方法专利，消除烧结过程容易爆膜的问题
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2026-08-05 16:31:32
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国家知识产权局信息显示，湖南红太阳光电科技有限公司申请一项名为“一种原子层沉积退火设备及硅片钝化镀膜方法”的专利，公开号CN122503835A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明公开了一种原子层沉积退火设备及硅片钝化镀膜方法，原子层沉积退火设备包括反应腔体以及设置在反应腔体内的铝舟、加热包和红外加热组件；所述铝舟用于装载待镀膜的硅片，多个所述加热包环绕布置在反应腔体内侧，以用于加热反应腔体和铝舟；所述红外加热组件设置在铝舟下方，用于对铝舟内的硅片进行加热，以实现硅片快速升温至预设的镀膜温度和退火温度。本发明通过在铝舟的下方设置红外加热组件，对沉积完氧化铝薄膜的硅片进行预退火处理，有效排出低温沉积的氧化铝薄膜中过量的氢，提高氧化铝薄膜致密性，减少后道PECVD镀膜工序的退火时间，消除烧结过程容易爆膜的问题。
天眼查资料显示，湖南红太阳光电科技有限公司，成立于2009年，位于长沙市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本65270.9万人民币。通过天眼查大数据分析，湖南红太阳光电科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目47次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息454条，此外企业还拥有行政许可11个。
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来源：市场资讯
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