新阳半导体等取得i线光刻胶及其制备方法和应用专利
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2025-07-15 15:11:29
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金融界2025年7月15日消息，国家知识产权局信息显示，上海新阳半导体材料股份有限公司、上海芯刻微材料技术有限责任公司取得一项名为“一种i线光刻胶及其制备方法和应用”的专利，授权公告号CN116203797B，申请日期为2021年11月。
天眼查资料显示，上海新阳半导体材料股份有限公司，成立于2004年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本31338.1402万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新阳半导体材料股份有限公司共对外投资了28家企业，参与招投标项目71次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息410条，此外企业还拥有行政许可104个。
上海芯刻微材料技术有限责任公司，成立于2018年，位于上海市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本15000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海芯刻微材料技术有限责任公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目1次，专利信息62条，此外企业还拥有行政许可1个。
来源：金融界
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