国家知识产权局信息显示,深圳争妍微电子有限公司申请一项名为“一种超级结MOSFET器件结构及其制造方法”的专利,公开号CN121262868A,申请日期为2025年10月。
专利摘要显示,本申请涉及高分子材料技术领域,公开了一种超级结MOSFET器件结构及其制造方法,包括在半导体衬底上形成催化剂纳米点阵;随后,在一个单一、连续的外延生长过程中,通过高频次地交替执行N型脉冲和P型脉冲,实现N型半导体柱的催化剂引导生长与P型半导体柱的选择性外延填充生长,形成自对准的超级结结构。该方法利用原位实时光学监控系统,根据外延层在生长初期、中期、末期阶段的不同厚度,对脉冲的持续时间进行自适应调整并对表面拓扑进行补偿。通过制备的超级结结构为整体式的、无物理界面的单晶结构,实现了原子级陡峭的掺杂结,简化了工艺,消除了界面缺陷,能够精确控制电荷平衡,从而获得低漏电流、高击穿电压均匀性和高表面平坦度的器件。
天眼查资料显示,深圳争妍微电子有限公司,成立于2024年,位于深圳市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析,深圳争妍微电子有限公司专利信息8条,此外企业还拥有行政许可1个。
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来源:市场资讯