国家知识产权局信息显示,通快激光系统半导体制造股份公司申请一项名为“用于EUV光系统的观测装置以及对应的EUV光系统”的专利,公开号CN121312254A,申请日期为2024年4月。
专利摘要显示,本发明涉及用于EUV光系统(1)的观测装置(3),该观测装置用于观测用于EUV光生成的材料滴(2)。观测装置(3)包括:光学器件(6),用于将测量激光束(4)引导至材料滴(2)和沿预给定的光束路径引导对应的反射的光(7);以及传感器系统(9),定位在光束路径的端部处,用于检测反射的光(7)。为了阻止在光学器件(6)处发生的对测量激光束(4)的干扰反射(11,14,17,21),在光学器件(6)与传感器系统(9)之间至少在光束路径的中心区域中定位光阻挡元件(12,20,22),从而确保反射的光(7)中的至少一些可以到达传感器系统(9),而不管光阻挡元件(12,20,22)如何。本发明还涉及包括这样的观测装置(3)的EUV光系统(1)。
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来源:市场资讯