成都凯威特斯半导体申请半导体器件表面自动化清洗检测一体设备专利，达到更高的清洗品质
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2026-01-20 00:08:32
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国家知识产权局信息显示，成都凯威特斯半导体科技有限公司申请一项名为“一种半导体器件表面自动化清洗检测一体设备”的专利，公开号CN121339101A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种半导体器件表面自动化清洗检测一体设备，其包括：机体，其前侧端面装配有竖向滑动设置的升降门；主清洗槽，设置在机体内为位于升降门的下方，所述机体内位于主清洗槽的一侧配置有副清洗槽；照明系统，设置在机体内位于主清洗槽与副清洗槽的正上方；LPC检测仪，设置在机体内并位于主清洗槽的另一侧，所述机体上位于LPC检测仪上方设置有控制面板；鼓泡膜机构，设置在主清洗槽与副清洗槽的底部。本发明运用液体颗粒检测设备本设备进行连接通过PLC控制程序达到：自动溢流、鼓泡、注水、排空、检测一体化，可以对产品溢流清洗检测及判定清洗是否完成，以达到更高的清洗品质，减少人员测试误差，解放人力。
天眼查资料显示，成都凯威特斯半导体科技有限公司，成立于2024年，位于成都市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，成都凯威特斯半导体科技有限公司参与招投标项目1次，专利信息1条，此外企业还拥有行政许可10个。
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