伟铭光电申请半导体晶圆表面芯片检测方法专利，精准识别相似缺陷减少漏检误检
创始人
2026-01-24 22:15:46
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国家知识产权局信息显示，深圳市伟铭光电有限公司申请一项名为“一种半导体晶圆表面的芯片检测方法及系统”的专利，公开号CN121391857A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体检测技术领域，公开了一种半导体晶圆表面的芯片检测方法及系统。该方法包括采集晶圆表面高分辨率图像，经噪声滤波与对比度均衡化处理，分离缺陷候选区域集与参考背景区域；逐一提取待识别缺陷区域，访问缺陷知识图谱获取潜在缺陷种类；将潜在缺陷种类与参考背景区域多特征融合，通过上下文感知编码器生成缺陷语义特征向量，解析向量判定实际缺陷种类；处理全部候选区域后输出缺陷检测报告。该方法强化缺陷与背景的区分度，缩小缺陷判定范围，精准识别相似缺陷，减少漏检误检，提升检测效率与准确性，为晶圆生产质量把控提供可靠技术支撑。
天眼查资料显示，深圳市伟铭光电有限公司，成立于2018年，位于深圳市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市伟铭光电有限公司参与招投标项目6次，专利信息21条，此外企业还拥有行政许可8个。
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