创视半导体申请像素曝光调整方法及系统专利，速度可提升2倍及以上
创始人
2026-03-06 11:28:06
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国家知识产权局信息显示，创视半导体（杭州）有限公司申请一项名为“一种像素曝光调整方法及系统”的专利，公开号CN121619505A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种像素曝光调整方法及系统，涉及像素曝光技术领域。该方法包括：获取原始图像的像素阵列；根据所述像素阵列和实际需求，确定曝光方式为单帧多段式曝光方式；进行单帧多重曝光参数初始化，根据初始化后的曝光参数，基于单帧多段式曝光参数调整法对曝光参数进行调整，得到调整后的曝光参数；所述曝光参数包括曝光时间和增益；基于所述单帧多段式曝光方式和调整后的曝光参数，对所述像素阵列各区域进行对应的曝光控制。本发明较现有方案速度可提升2倍及以上，大大提高了低功耗系统中的曝光效率。
天眼查资料显示，创视半导体（杭州）有限公司，成立于2023年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本531.6286万人民币。通过天眼查大数据分析，创视半导体（杭州）有限公司共对外投资了4家企业，专利信息20条，此外企业还拥有行政许可3个。
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来源：市场资讯
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