上海微芸半导体取得设置于等离子体刻蚀设备中的匀流装置相关专利，提高晶圆刻蚀均匀性_厂商动态

上海微芸半导体取得设置于等离子体刻蚀设备中的匀流装置相关专利，提高晶圆刻蚀均匀性

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2025-07-13 00:10:20

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金融界2025年7月12日消息，国家知识产权局信息显示，上海微芸半导体科技有限公司取得一项名为“一种设置于等离子体刻蚀设备中的匀流装置和刻蚀设备”的专利，授权公告号CN223092810U，申请日期为2024年08月。

专利摘要显示，本申请提供一种设置于等离子体刻蚀设备中的匀流装置和电容耦合等离子体刻蚀设备，匀流装置包括被配置有若干贯穿孔的匀流装置本体，所述贯穿孔包括一体设置的进气口、出气口和孔道，所述孔道为弯曲孔道。电容耦合等离子体刻蚀设备包括刻蚀腔和上述匀流装置。匀流装置的弯曲孔道减少了孔道在刻蚀工艺过程中的暴露程度，降低刻蚀过程中物理/化学反应对出气孔道的损害，保证腔室进气的均匀性，延长匀流装置的工作寿命。电容耦合等离子体刻蚀设备使晶圆刻蚀的均匀性得到提高，匀流装置的更换周期变长。

天眼查资料显示，上海微芸半导体科技有限公司，成立于2021年，位于合肥市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本467.6571万人民币。通过天眼查大数据分析，上海微芸半导体科技有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目3次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息29条，此外企业还拥有行政许可3个。

来源：金融界

企业孔道半导体相关微芸装置设备等离子体匀流专利电容

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