光微半导体申请高纯铜溅射靶材清洗装置专利，提高清洗效果
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2025-08-16 17:22:51
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金融界2025年8月16日消息，国家知识产权局信息显示，光微半导体材料（宁波）有限公司申请一项名为“一种高纯铜溅射靶材的清洗装置”的专利，公开号CN120485791A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本发明涉及一种高纯铜溅射靶材的清洗装置，在清洗槽中放置高纯铜溅射靶材，在清洗槽外的底部设有换能器，换能器与超声波发生器连接，使用去离子水和有机溶剂进行超声波清洗，去除高纯铜溅射靶材表面颗粒和有机物，高纯铜溅射靶材放置在移动支撑结构上，移动支撑结构不仅仅能够变换与高纯铜溅射靶材的接触部位避免清洗盲区的存在，而且使得高纯铜溅射靶材在清洗槽中移动从而提高清洗效果。
天眼查资料显示，光微半导体材料（宁波）有限公司，成立于2021年，位于宁波市，是一家以从事有色金属冶炼和压延加工业为主的企业。企业注册资本1324.8445万人民币。通过天眼查大数据分析，光微半导体材料（宁波）有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息31条，此外企业还拥有行政许可3个。
来源：金融界
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