和显达微电子申请铜金属蚀刻液组合物专利，最高铜负载达到20000ppm
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2026-01-20 00:37:05
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国家知识产权局信息显示，南京和显达微电子科技有限公司申请一项名为“一种铜金属蚀刻液组合物”的专利，公开号CN121344608A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明涉及蚀刻液技术领域，具体的，涉及一种铜金属蚀刻液组合物。包括主剂和辅剂，按重量百分比计，所述主剂包括过氧化氢5‑10%、第一氟源0.1‑0.3%、第一无机酸1‑5%、碱1‑5%、第一金属缓蚀剂0.01‑0.8%，去离子水补足余量；所述辅剂包括第二氟源2‑8%、第二无机酸10‑55%、第二金属缓蚀剂0.1‑2%，去离子水补足余量。本发明蚀刻液蚀刻效果优异，CD‑loss达到0.6‑0.8μm、坡度角达到40‑50°、最高铜负载达到20000ppm，同时解决了高铜时，由于硝酸浓度太高导致的金属蚀刻异常的问题。
天眼查资料显示，南京和显达微电子科技有限公司，成立于2021年，位于南京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本50万人民币。通过天眼查大数据分析，南京和显达微电子科技有限公司参与招投标项目3次，专利信息3条，此外企业还拥有行政许可5个。
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来源：市场资讯
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