道明光电申请基于参数化表示的逆反射结构及其设计方法专利，可实现特定的逆反射照度分布_电池技术

道明光电申请基于参数化表示的逆反射结构及其设计方法专利，可实现特定的逆反射照度分布

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2026-03-02 16:12:18

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国家知识产权局信息显示，浙江道明光电科技有限公司申请一项名为“基于参数化表示的逆反射结构及其设计方法”的专利，公开号CN121578509A，申请日期为2026年1月。

专利摘要显示，本发明提出了一种基于参数化表示的逆反射结构及其设计方法，设计方法包括以下步骤：S01，定义基准平面；S02，在基准平面上设计由多个光学结构组成的阵列，各光学结构紧密排列,每个光学结构包括：由两个等边三角形拼接形成的平行四边形基准子面；以所述两个等边三角形为底面分别构造的凸立方角锥和凹立方角锥；S03，将所述凸立方角锥的三个反射面与基准平面之间的夹角分别定义为特征角度参数i1、j1和k1，将所述凹立方角锥的三个反射面与基准平面之间的夹角分别定义为特征角度参数i2、j2和k2；S04，通过配置所述特征角度参数，使所述逆反射结构呈现所需的照度分布。本发明通过调整特征角度参数，可以优化逆反射结构的性能并实现特定的逆反射照度分布。

天眼查资料显示，浙江道明光电科技有限公司，成立于2014年，位于金华市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江道明光电科技有限公司参与招投标项目9次，专利信息104条，此外企业还拥有行政许可11个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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