南亚科技取得半导体元件主动区域制备方法专利
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2026-03-14 01:59:38
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国家知识产权局信息显示，南亚科技股份有限公司取得一项名为“半导体元件的主动区域的制备方法”的专利，授权公告号CN119521654B，申请日期为2023年11月。

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