华星光电申请阵列基板及其制备方法专利，实现更纯净的灰阶表现
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2026-04-07 23:44:53
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国家知识产权局信息显示，武汉华星光电半导体显示技术有限公司申请一项名为“阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置”的专利，公开号CN121815743A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置，属于显示技术领域，阵列基板通过将第一有源结构也设置成包括氧化物半导体，通过在第一有源结构靠近衬底的一侧设置第一底栅以及在第二有源结构靠近衬底的一侧设置第二底栅，并通过将第一底栅和第二底栅设置成异层设置，且第一底栅与第一有源结构之间的距离设置成小于第二底栅与第二有源结构之间的距离，从而使阵列基板在解决高分辨率（8K/VR）显示中的亮度不均等Mura缺陷的同时还能实现更纯净的灰阶表现。
天眼查资料显示，武汉华星光电半导体显示技术有限公司，成立于2016年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2100000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电半导体显示技术有限公司参与招投标项目517次，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可384个。
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