国家知识产权局信息显示,上海芯之翼半导体材料有限公司取得一项名为“半导体设备真空门阀密封结构”的专利,授权公告号CN223708766U,申请日期为2025年1月。
专利摘要显示,本实用新型公开了一种半导体设备真空门阀密封结构,其用于半导体离子镀法或电浆蚀刻工艺真空腔,包括:主沟槽形成在门阀基座板上,其用于容置第一密封圈;第一密封圈部分凸出主沟槽;两根侧沟槽分别布置在主沟槽的两侧,其用于容置第二密封圈;第二密封圈部分凸出侧沟槽;其中,第一密封圈是橡胶密封圈,第二密封圈是聚四氟乙烯密封圈。本实用新型对现有技术结构进行了改进,主沟槽中的第一密封圈采用橡胶密封圈起到弹性支撑的作用,保证产品的密封性能,侧沟槽中的第二密封圈采用PTFE抗腐蚀密封圈,提供优越的抗腐蚀性能。第二密封圈阻挡绝大部分的电浆,电浆无法直接轰击到第一密封圈,从而可以大大延长产品的使用寿命。
天眼查资料显示,上海芯之翼半导体材料有限公司,成立于2021年,位于上海市,是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本1336.8983万人民币。通过天眼查大数据分析,上海芯之翼半导体材料有限公司共对外投资了1家企业,财产线索方面有商标信息33条,专利信息65条,此外企业还拥有行政许可8个。
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来源:市场资讯