华星光电申请支撑构件及其制作方法专利，提升支撑构件的抗冲击性能
创始人
2026-01-14 02:07:44
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国家知识产权局信息显示，武汉华星光电半导体显示技术有限公司申请一项名为“支撑构件及其制作方法、显示终端”的专利，公开号CN121305998A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本申请涉及一种支撑构件及其制作方法、显示终端。支撑构件第一表面、第二表面和多个镂空孔；镂空孔包括连通的第一子孔和第二子孔，第一子孔位于第二子孔靠近第一表面的一侧；镂空孔在第一方向上的长度大于其在第二方向上的宽度，第一方向与第二方向相交，第一子孔在第二方向上的孔径小于其在第二方向上的孔径，第一子孔的深度小于或等于第二子孔的深度。本申请中，通过在支撑构件的弯折区内设置多个镂空孔，并使第一子孔在第二方向上的孔径小于第二子孔在第二方向上的孔径，从而减小靠近第一表面的第一子孔的孔径，提升支撑构件的抗冲击性能；同时，由于第一子孔的深度小于或等于第二子孔的深度，从而可以保证支撑构件的弯折可靠性。
天眼查资料显示，武汉华星光电半导体显示技术有限公司，成立于2016年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2100000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电半导体显示技术有限公司参与招投标项目515次，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可381个。
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来源：市场资讯
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