武汉飞恩微电子申请压力测量装置专利，避免了压力测量电路直接接触介质和对压力测量电路的损坏_电池问答

武汉飞恩微电子申请压力测量装置专利，避免了压力测量电路直接接触介质和对压力测量电路的损坏

创始人

2026-02-04 21:41:34

0次

国家知识产权局信息显示，武汉飞恩微电子有限公司申请一项名为“压力测量装置”的专利，公开号CN121453272A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，一种压力测量装置，包括：具有引入待测压力介质的一压力引入通道的壳体；封闭固定于所述压力引入通道一端的第一弹性隔膜，其于一侧接收所述待测压力介质而产生朝另一相对侧的第一形变；可拆卸地连接至所述壳体外部的压力传感器组件，包括在所述第一形变的挤压下朝所述相对侧产生第二形变的第二弹性隔膜，以及设置于所述第二弹性隔膜的所述相对侧的表面的用于所述第二形变转换为相应电信号的压力测量电路；本发明通过设置可拆卸的压力传感器组件、第一弹性隔膜以及压力传感器组件包括的第二弹性隔膜，实现了对待测压力介质的有效隔离，避免了压力测量电路直接接触介质和对压力测量电路的损坏。

天眼查资料显示，武汉飞恩微电子有限公司，成立于2011年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉飞恩微电子有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目10次，财产线索方面有商标信息20条，专利信息829条，此外企业还拥有行政许可7个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业投资电路介质测量压力隔膜微电子形变专利武汉

上一篇：瑟德莱伯取得半导体光学硅片外圆磨抛机专利，能够实现磨抛轮的快速拆装

下一篇：广东领步取得无人机侦测传感器安装结构专利，缓解空间不足

武汉飞恩微电子申请压力测量装置专利，避免了压力测量电路直接接触介质和对压力测量电路的损坏

相关内容

热门资讯