华丞电子申请电源装置及半导体工艺设备专利，降低工艺失败的风险
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2026-02-10 22:49:22
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国家知识产权局信息显示，北京华丞电子有限公司申请一项名为“电源装置及半导体工艺设备”的专利，公开号CN121485440A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，本申请提供一种电源装置及半导体工艺设备，电源装置包括电源本体、射频生成电路以及电荷泄放电路，其中，射频生成电路用于在工艺过程中将电源本体与半导体工艺设备的射频馈入端口相连；电荷泄放电路将电源本体的正极与半导体工艺设备的射频馈入端口相连，电荷泄放电路包括泄放开关，泄放开关用于在工艺过程的间歇将射频馈入端口与电源本体的正极导通。工艺过程中，负电荷在半导体工艺设备内累积。工艺过程的间歇，电荷泄放电路将射频馈入端口与电源本体的正极导通，电荷可由电荷泄放电路流到电源本体的正极，从而使半导体工艺设备内积累的负电荷快速泄放，降低了工艺失败的风险。
天眼查资料显示，北京华丞电子有限公司，成立于2017年，位于北京市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本2090.584311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京华丞电子有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目129次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息269条，此外企业还拥有行政许可46个。
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来源：市场资讯
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