光舟半导体申请光波导结构及镀膜方法专利，提升波导出射能量的均匀性
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2026-02-17 12:47:58
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国家知识产权局信息显示，深圳市光舟半导体技术有限公司申请一项名为“光波导结构、镀膜方法以及显示设备”的专利，公开号CN121522796A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明涉及一种光波导结构、镀膜方法以及显示设备，属于光学显示的技术领域，其包括波导衬底和入瞳区域，入瞳区域设置在所述波导衬底上，用于将光机发出的图像光束耦入到所述波导衬底内，所述入瞳区域包括子区域，所述子区域至少包括第一区域和第二区域，所述第一区域和所述第二区域上均设置有光学膜层，所述子区域上的所述光学膜层的厚度不同，本发明具有使得双目出射能量相同，避免了均匀入瞳设计情况下由于制备工艺的微小偏差或者光源本身的不对称性等因素可能导致的左右眼出射的光能量不同，又能使得双目出射能量相同的效果，以及解决现有技术中存在能量损失，导致出射图像的亮度均匀性变差的技术问题，提升波导出射能量的均匀性。
天眼查资料显示，深圳市光舟半导体技术有限公司，成立于2020年，位于深圳市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本353.7285万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市光舟半导体技术有限公司共对外投资了4家企业，财产线索方面有商标信息31条，专利信息182条，此外企业还拥有行政许可10个。
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来源：市场资讯
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