倍耐克申请抗等离子体蚀刻膜及其制备方法专利，阻碍电流通过该抗等离子体蚀刻膜到达基板
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2025-12-04 02:06:02
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国家知识产权局信息显示，倍耐克有限公司申请一项名为“抗等离子体蚀刻膜及其制备方法”的专利，公开号CN121057840A，申请日期为2024年4月。
专利摘要显示，本发明公开了在基板表面制备抗等离子体蚀刻膜的方法。该方法包括以下步骤：在反应空间中，通过将沉积表面暴露于前驱体的交替重复、基本上自限性表面反应，以一次一前驱体，形成：-在所述基板表面的介电材料中间层，以及-在所述中间层上的保护层，从而形成抗等离子体蚀刻膜，以阻碍电流通过该抗等离子体蚀刻膜到达基板。本发明还进一步公开了抗等离子体蚀刻膜及其用途。
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