国家知识产权局信息显示,ASML荷兰有限公司申请一项名为“内部光源、光刻装置、量测系统,以及相关方法”的专利,公开号CN122459744A,申请日期为2024年12月。
专利摘要显示,一种系统,包括光学系统、反射系统和检测系统。光学系统包括透镜元件。光学系统生成辐射束并且引导该辐射束朝向反射系统。反射系统引导辐射束朝向透镜元件。检测系统接收来自透镜元件的散射光并且将该散射光引导至成像传感器。
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